直線馬達加持的二代EUV光刻機：性能提升70% 2025年問世。半導體制造過程中很復雜也是很難的步驟就是光刻，成本能占到整個生產過程的1/3，光刻機也因此成為很重要的半導體制造裝備，沒有之一。目前較先進的光刻機是荷蘭ASML公司生產的EUV光刻機，每臺售價超過1億美元，而且供不應求。

小編直線馬達知道，2019年，臺積電、三星都會開始量產7nm EUV工藝，現有的EUV光刻機也差不多成熟了，雖然產量比起傳統(tǒng)的DUV光刻機還有所不如，不過已經能夠穩(wěn)定量產了，7nm及明年的5nm節(jié)點上EUV光刻機都會是重點。

EUV光刻機未來還能怎么發(fā)展？據小編直線馬達所知，2016年ASML公司宣布斥資20億美元收購德國蔡司公司25%的股份，并投資數億美元合作研發(fā)新一代透鏡，而ASML這么大手筆投資光學鏡頭公司就是為了研發(fā)新一代EUV光刻機。

據小編直線馬達了解到，ASML公司正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機，與現有的光刻機相比，二代EUV光刻機很大的變化就是High NA（高數值孔徑）透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%，達到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。

據小編直線馬達得到的消息稱，ASML去年10月份就宣布與IMEC比利時微電子中心合作研發(fā)新一代EUV光刻機，目標是將NA從0.33提升到0.5以上，而從光刻機的分辨率公式——光刻機分辨率=k1*λ/NA中可以看出，NA數字越大，光刻機分辨率越高，所以提高NA數值孔徑是下一代EUV光刻機的關鍵，現在EUV極紫外光已經提升過一次了。

之前ASML公布的新一代EUV光刻機的量產時間是2024年，不過報道稱下一代EUV光刻機是2025年量產，這個時間上臺積電、三星都已經量產3nm工藝了，甚至開始進軍2nm、1nm節(jié)點了。

光刻機是直線馬達的應用之一。昆山同茂電子有限公司十年專注于直線馬達生產與研發(fā)，公司生產的直線馬達采用歐美先進技術標準，工藝和測試手段,其品質與動力性能達到國內外先進水平,得到國內外顧客的一致認可。

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